MPD-2金相试样磨抛机采用整体注塑外壳设计

MPD-2金相试样磨抛机是我厂近期研发的一款设备双盘双工位磨抛机，机身采用ABS整体注塑，具有耐冲击、耐腐蚀等特点，相比金属外壳，其外形也更加流畅，美观。密封式进出水结构；流水与线路板隔开。**大**深磨样室，有效阻挡冷却水及磨抛液外溅，研磨抛光较*件时操作更加方便。 该设备适用于金属、陶瓷、岩石、电子器件等各类样件的精密研磨抛光，本机集粗磨、精磨、抛光等功能与一体，更换砂纸方便快捷，具备多种磨抛盘选择，满足各类实验的研磨抛光要求。

二、产品特点：
1、采用整体注塑外壳设计
2、密封式进排水系统
3、多种磨抛盘选择(200mm、230mm 、250mm、 300mm)
4、双盘单控双工位系统
5、转速具备(四档定速)
6、转速方式:单转向

7、360度任意旋转水龙头

三、技术规格：
1、机体形式：台式双盘
2、控制方式：双盘单控
3、磨盘转速：300、500、600、1000四档变速;

4、转速方式:单向转速；
5、主机功率：550W；
6、磨盘直径：φ230mm （可选配φ200、φ250、φ300mm等规格） 
7、外形尺寸：850X750X450mm
8、电源 ：220V
四、常用耗材： 
1、金相砂纸：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于常规金属类样件的研磨。
2、金刚石磨盘：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于超硬材料样件的研磨。
3、金刚石砂纸：粒度：45-0.3um(适合超硬材料的精密研磨及粗抛，如陶瓷、晶体等材料）。
4、抛光布料：呢料、丝绒、羊毛等（对特殊材料也需要采用粗抛、精抛等多道抛光工艺）。
5、金刚石抛光剂：粒度：40-0.5um（比较广泛的抛光辅料，适合各类材料的抛光）。
6、金刚石悬浮液：粒度：40-0.5um（比较广泛的抛光辅料，更适合自动磨抛机使用）。
7、氧化铝抛光粉：粒度：30-0.5um （适合碳钢类样件的抛光）。 
8、磁性磨盘：更便于更换砂纸及抛光布料。